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| 公司名稱： |
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公司類型： |
企業單位 (制造商) |
| 所 在 地： |
青島市 |
公司規模： |
1-49人 |
| 注冊資本： |
300萬人民幣 |
注冊年份： |
2016 |
| 資料認證： |
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| 經營模式： |
制造商 |
| 經營范圍： |
氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸.LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數大，故可采用密集裝片方式來提高生產率。 真空擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。 |
| 銷售的產品： |
氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結爐 |
| 采購的產品： |
氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結爐 |
| 主營行業： |
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